2-2. ICP
1) ICP 정의
아르곤(Ar)을 플라즈마 가스로 이용하여 고주파 발생기로부터 발생된 주파수(2.45GHz) 영역에서 유도코일에 의해 발생된 플라즈마 발생소스에는 평판형(planar)(와선형), 나선형(helical)(실린더형)
이 있다.
2) ICP의 원리
Coil에 고주파 가하면 자기장 발생
챔버 주위로 원형의
대체 제품인 300㎜ 웨이퍼가 신규라인 건설에 따른 비용부담이 과다하고 웨이퍼 자체의 신뢰성이 아직 검증되지 않은 상태이고 웨이퍼가 300㎜로 대구경화하면서 플라즈마 밀도나 공정 관련 요소들의 균일도가 나빠지는 문제점 제기.
. 나의 아이디어
원하는 부분만 laser를 사진식각공정 대신 사용
Part 1. 면접 전형 방식 + 기업 개요
[직무 및 인성면접]
직무, 인성 면접 통합으로 1회만 실시/ 면접관 4명(실무 및 임원진)/ 30분 소요/ 개인이력.자기소개서질문 + 기술질문 + 인성질문
*SK하이닉스 기업개요
SK하이닉스의 전신은 1983년 설립된 현대전자산업이다.
1999년 현대전자가 LG반도체를 흡수
◇ 도쿄일렉트론 면접후기 및 합격팁!
★채용프로세스
서류 - 인적성 - 1차면접 - 2차면접 - 3차면접
★최종면접이 잡히고 난뒤 했던 활동과 후기
반도체 공정실습을 통해 [식각공정]에 대한 이해를 높인 부분이 가장 컸다
고 생각한다. 그 중에서 수율증가를 성취한 경험을 자소서에 녹여서 작성 했